ASML

ASML 监事会表示计划在明年 4 月 22 日的下一届年度股东大会上任命 Marco Pieters 为公司管理委员会成员。

俄罗斯科学院公布国产极紫外光刻设备路线图，计划2026年起分三阶段研发11.2纳米波长技术，目标2037年实现亚10纳米制程。该技术采用氙气等离子体光源和钌/铍反射镜，规避ASML专利限制，主打高性价比小型晶圆厂需求。 #芯片制造##光刻机#

台积电计划缩短美国晶圆厂建设周期至两年，但设备供应问题可能导致技术导入滞后中国台湾1-2个节点。凤凰城Fab 21一期2025年投产，二期2026年试产，三期2nm工艺或2029年量产。

EXE:5200 是现有初代 High NA EUV 光刻机 EXE:5000 的改进款，根据 ASML 方法的说法“更适合大批量生产”。

荷兰光刻机制造商 ASML Holding NV 的首席执行官克里斯托夫・福凯（Christophe Fouquet）在周三的新闻发布会上表示，对于 ASML 而言，任何能够降低成本的消息都是好消息。此前，中国初创公司 DeepSeek 推出的低成本聊天机器人在市场上引发了波动，但福凯认为，这反而为 ASML 带来了更多机遇。

ASML 第四季度收入创下新纪录，总净销售额达 93 亿欧元，毛利率为 51.7%，均高于预期

据荷兰媒体《NOS》报道，荷兰庇护和移民事务部对一名阿斯麦（ASML）前员工实施了为期 20 年的入境禁令。这名与俄罗斯有联系的个人目前正在接受调查，他被怀疑从阿斯麦窃取重要的微芯片文件并涉嫌从事间谍活动。当地媒体报道称，荷兰很少实施此类禁令，通常只在涉及国家安全的案件中才会这样做。

欧洲最大的科技公司、计算机芯片设备制造商 ASML 周四表示，预计未来五年销售额将增长 8% 至 14%，因为人工智能的蓬勃发展推动了对其最先进工具的强劲需求。

据台媒《经济日报》今天下午援引业界消息称，台积电首台ASML High NA EUV光刻系统设备本月将进机，这将使其“持续领先”三星晶圆代工的交机进度。