休闲区 解决半导体制造领域难题,我国航天企业成功研制新一代高性能 UV 减粘胶 据中国航天科技集团消息,其四院 7416 厂三沃化学公司近期成功研制出新一代高性能 UV 减粘胶,依托在有机小分子设计、高分子合成及界面粘接领域的技术积淀,创新采用多重固化 — 减粘机制,从根本上解决了精密制程剥离难题。 0 14 0 Share